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全部分類
四氟化碳
分子式:
CF4
分子量:
產品分類:
電子氣體
產品純度:
99.999%
包裝說明:
鋼瓶
充裝壓力:
閥門型號:
CAS:
75-73-0
充裝量:
產品描述
應用領域
產品優勢
聯系方式
紐瑞德特氣高純四氟化碳相關參數
產品名稱:四氟化碳 四氟化碳氣體 四氟甲烷 全氟化碳
產品等級：分析純
產品純度：99.999%
包裝規格：40L
英文名稱:carbon tetrafluoride
英文別名:Tetrafluoromethane
CAS:75-73-0
EINECS:200-896-5
分子式:CF4
分子量:88
物化性質:- 熔點:-184℃
高純四氟化碳充裝標準
| 序號 | 名稱 | 化學式 | 純度(%) | 壓力(Mpa) | 充裝量(m3/kg) | 閥門|螺紋出口 | 鋼瓶容積(L) | 鋼瓶尺寸(cm) | 鋼瓶皮重(kg) |
| 1 | 四氟化碳/R14 | CF4 | 99.999 | 4 | 28公斤 | PX-32|G5/8 | 40 | 29×145 | 50 |
| 2 | 四氟化碳/R14 | CF4 | 99.999 | 4 | 30公斤 | CGA580 | 44 | 29×145 | 53 |
| 3 | 四氟化碳/R14 | CF4 | 99.999 | 4 | 5公斤 | PX-32|G5/8 | 8 | 22×70 | 10 |
四氟化碳合成方法
1.由碳與氟反應，或一氧化碳與氟反應，或碳化硅與氟反應，或氟石與石油焦在電爐里反應，或二氟二氯甲烷與氟化氫反 應，或四氯化碳與氟化銀反應，或四氯化碳與氟化氫反應，都能生成四氟化碳。四氯化碳與氟化氫的反應在填有氫氧化鉻的高溫鎳管中進行，反應后的氣體經水洗、 堿洗除去酸性氣體，再通過冷凍，用硅膠除去氣體中的水分，最后經精餾而得成品。
2.預先稱取5～10g的碳化硅粉末和0.1g的單質硅粉，置于鎳盤中，使硅和碳化硅充分接觸后，將鎳盤放入蒙乃爾 合金反應管中，向反應管內通入氟氣，氟氣先和單質硅反應，反應放熱后，氟開始和碳化硅進行反應，通入等體積的干燥氮氣以稀釋氟氣，使反應繼續進行，生成氣 體通過液氮冷卻的鎳制捕集器冷凝，然后慢慢地氣化后，將其通過裝有氫氧化鈉溶液的洗氣瓶除去四氟化硅，隨后通過硅膠和五氧化二磷干燥塔得到最終產品。
3.以活性炭與氟為原料經氟化反應制備。在裝有活性炭的反應爐中，緩緩通入高濃氟氣，并通過加熱器加熱、供氟速率和 反應爐冷卻控制反應溫度。產品經除塵，堿洗除去HF、CoF2、SiF4、CO2等雜質、再經脫水可獲得含量約為85%的粗品。將粗品引入低溫精餾釜中進 行間歇粗餾，通過控制精餾溫度，除去O2、N2、H2，得到高純CF4。
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應用領域
四氟化碳產品用途
四氟化碳是目前微電子工業中用量最大的等離子燭刻氣體，其高純氣及四氟化碳高純氣配高純氧氣的混合體。
1. 可廣泛應用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢薄膜材料的燭刻。對于硅和二氧化硅體系，采用CF4-H2反應離子刻蝕時，通過調節兩種氣體的比例，可以獲得45：1的選擇性，這在刻蝕多晶硅柵極上的二氧化硅薄膜時很有用。
2. 在電子器件表面清洗、太陽能電池的生產、激光技術、氣相絕緣、低溫制冷、
泄漏檢驗劑、控制宇宙火箭姿態、印刷電路生產中的去污劑等方面也大量使用。
3. 由于化學穩定性極強，CF4還可以用于金屬冶煉和塑料行業等。
4. 四氟化碳的溶氧性很好，因此被科學家用于超深度潛水實驗代替普通壓縮空氣。目前已在老鼠身上獲得成功，在275米到366米的深度內，小白鼠仍可安全脫險。
產品優勢
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