三氟化氮

分子式:

NF3

分子量:

產品分類:

電子氣體

產品純度:

99.999%

包裝說明:

鋼瓶

充裝壓力:

閥門型號:

CAS:

充裝量:

產品描述

應用領域

產品優勢

聯系方式

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三氟化氮在常溫下是一種無色、無臭、性質穩定的氣體，是一種強氧化劑。三氟化氮在微電子工業中作為一種優良的等離子蝕刻氣體，在離子蝕刻時裂解為活性氟離子，這些氟離子對硅和鎢化合物，高純三氟化氮具有優異的蝕刻速率和選擇性（對氧化硅和硅），它在蝕刻時，在蝕刻物表面不留任何殘留物，是非常良好的清洗劑，同時在芯片制造、高能激光器方面得到了大量的運用。

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應用領域

三氟化氮（NF3）的主要應用

IC方面：由于作為半導體工業中氣體清洗劑的全氟烴(PFC)對環境有害,近年來有逐漸被三氟化氮(NF3)取代之勢。了解更多電子特氣請關注微信gasgroup使用NF3作為化學蒸氣沉積(CVD)箱清洗劑,與全氟烴相比,可減少污染物排放量約90%,且可顯著提高清洗速度,從而可提高清洗設備能力約30%。

LCD方面：NF3還可用作蝕刻劑,也用于液晶顯示器(LCD)的加工。為此,近年來NF3需求量急劇增長,90年代中期全球年用量不到46t, 2013年為5100噸。為滿足日益增長的需求,世界各生產商均在積極擴大生產能力,預計每年將繼續增長約15%。但是三氟化氮(NF3)的GWP值高達10 800,今后的發展可能會為此受到一定的限制。

太陽能電池：NF3作為蝕刻和清洗氣體也在太陽能電池制造行業廣泛應用。